Infineon modernisiert seine Reinrauminfrastruktur in Villach für die GaN-Chipproduktion. Dort entsteht eine großvolumige Fertigung auf 300-Millimeter-Wafern. Galliumnitrid-Leistungshalbleiter sollen dadurch in industriellen Mengen verfügbar werden. Die Maßnahme umfasst Investitionen von etwa 1,1 Milliarden Euro. Der Umsetzungszeitraum reicht nach aktueller Planung bis 2034. Die neue Produktionslinie soll Ende 2027 ihren Betrieb aufnehmen. Ihr Hochlauf erfolgt abhängig von den Bestellungen und Marktprognosen.
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